优普莱等离子体MPCVD薄膜制备装置
更新时间：2022-07-01
信息编号：1650337
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适合的应用： 化学气相沉积法制备石墨烯薄膜、碳纳米管薄膜、富勒烯、金刚石膜和类金刚石膜等**碳纳米薄膜材料； 化学气相沉积法制备其他**无机薄膜； 等离子体清洗、微波烧结、金属表面强化和高聚物表面改性等。 ? 产品特点： 微波频率2.45GHz，微波功率连续可调，可长时间连续工作； 微波等离子体装置能量转化**，等离子体活性强密度高，无电极放电，从而避免了电极污染； 产品功率从1kw到5kw，有石英管式、石英钟罩式和金属谐振腔式等多种产品形式； 产品配有可升降的基片台和反应气体均流措施，改善了沉积环境； 基片台可选加热和水冷配置以及偏压电场； 两路至四路气体可选，气体流量控制采用MFC或转子流量计，气路管道电化学抛光； 配备冷却水循环系统，无水源要求，确保装置高功率下长时间安全稳定运行； 采用干式／湿式机械真空泵，可选配扩散泵与涡轮分子泵。
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